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 ENPR (Epoxy Negative Photo Resist )

▶ 제품 설명


    - ENPR는 micromachining 및 microelectronic applications을 위해 설계된 high contrast, epoxy 기반 negative Photoresist 입니다.

   ◎ High aspect ratio imaging with vertical side walls

   ◎ Near UV (350-400nm) processing

   ◎ Film thicknesses from 1.5 to 200µm with single spin coat
   ◎ Highly chemical and temperature resistance
   ◎ fully compatible with established SU-8 lithographic processes

▶ DATA SHEET

▶ MSDS

    - ENPR 은 11가지 기본 점성 (ENPR C0.5, C1, C2, C5, C7, C10, C15, C25, C35, C50, C75)이 있습니다.

ENPR
Series		Viscosity
(cP)		Thickness
(um)
Exposure Energy
(mJ/㎠)
C0.52.60.47 - 0.88100
C14.10.88 - 1.5100 - 105
C28.21.7 - 3.7105 - 115
C5
534 - 10120 - 165
C71656 - 14145 - 170
C104558 - 25155 - 190
C15150014 - 48
175 - 210
C25549022 - 93185 - 260
C35822028 - 112190 - 280
C501590037 - 143200 - 290
C752720055 - 203220 - 370

    - Process Flow

▶ ENPR(Epoxy Negative Photo Resist)로 전환해야 하는 3가지 이유


   ◎  낮은 가격으로 시장에서의 경쟁력


   ◎  국내 제조로 빠른 대응


   ◎  SU8 공정과 호환

 ENPR-DEV (ENPR Developer)

▶ 제품 설명


    - ENPR 현상액으로 SU-8 Developer를 대체 가능합니다

 

▶ MSDS

Tel. 02-944-6922 | Fax. 02-944-6923

Addr. 01811 서울 노원구 공릉로 232, 

          서울테크노파크 410호

copyright(c) 2023 SEMIONE INC. All Right Reserved


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